我们完全可以想象一下三十万平方公里是多么的大。
岛国的面积只不过三十七点八平方公里。
相当于岛国这么大，我们的国家呢，大约是九百六十万平方公里，相当于我们国土面积的3％了。
这个面积不可谓不大，但是这么大的面积仅仅误差一米，这是多么令人恐怖的一件事情啊。
这还仅仅是dUV光刻机，就有这样的精密度，要是换作更高级的EUV光刻机呢。
那精密度更高！
还是拿着三十万平方公里计算，那么误差不会超过十厘米。
“十厘米……”张星辰眼睛放着奇异的光芒，小白也不知道张星辰在想什么。
目前为止，在我们星球上只有德意志战车的斯克尔公司可以做到这一步。
就算是风车国的ASmL公司也是采购的这一家公司打磨的镜片。
“我们这一次制造出来的光刻机，一共有着三个平台，这三个平台分别用来盛放掩膜，硅晶圆片还有成品。”
放置成品的目的其实就是为了对芯片进行测试，检验一下芯片是否符合要求。
和最后一个平台相比，前两个平台无疑要重要许多。
这两种平台的运动方式有着两种方式，第一种就是相对静止的。
相对静止模式的光刻机这样可以使得光线可以一下子就镌刻好芯片的线路图，速度相对来说是快一些，，但是这样的话相当于直接拓印了。
这就导致了光线容易飞散，很大程度上影响了成品率。
第二种模式就是光线跟着放置眼膜的平台一起运动，这样的话光线集中，镌刻出来的线路图清晰，误差小，自然的成品率就会提高。
“不过对于机械的精密度要求非常高，我们制造出来的dUV光刻机已经可以把误差控制在十纳米之内了，对于制造45纳米的芯片而已来说已经可以了，已经可以满足要求，没有必要使用第二种模式。”
“如果使用EUV光刻机，那么对于误差的要求会更加严格，必须要保证在两纳米之内。”
除此之外，这里有一点需要说明，两个工作台在运动时候初速度的加速度非常快，甚至可以和发射炮弹出去时候的加速度相媲美。
而且制造芯片的时候，光刻机必须处于恒温状态，对于温度要求非常严格，在工作状态的时候，温度的误差不能超过千分之一。
“我们制造了这一款dUV光刻机，这两个平面是静止的这样制造起来更容易，也同样也是可以满足要求。”
掩模和硅晶圆片的相对位置这里也有三种，第一种是相互接触；第二种是他们两个的位置非常接近，但是并不接触；第三种就是距离相对较远，相当于投影。
也就是接触式曝光。接近式曝光、投影式曝光这三种。
其中效果最好的是投影式曝光，最差的就是接触式曝光。
“我们选择中间的接近式曝光，因为dUV光刻机没有必要用最好的，这样大大提高了难度和成本，以及功能富足。”
关于接触式的曝光其实非常复杂的，不过总体上可以分为三种，一种是真空接触，一种是硬接触，一种是软接触。
虽然名字不一样，但是后面两个字是不会错的，那都是接触。
因为掩模和硅晶圆片相互接触了，那么他们之间肯定会相互摩擦，这样不仅对硅晶圆片上面的光刻胶产生影响，而且还会影响掩模的精密度，影响掩模上面的线路图。
因为掩膜版，它是需要重复使用的，但这样每一次使用都和硅晶圆片相互接触，那么久而久之模版就会伤害上面的线路。线路图就会越来越模糊，甚至出现缺陷，也就使的掩模的破损率大大增加。
在使用一段时间之后，掩膜版就不能使用了。
这样接触式曝光就有一个严重的缺点，这样的缺点导致接触式曝光渐渐被淘汰了。
说出来很可惜，我们国家现在生产出来的光刻机，基本上都是接触式曝光，因为接触式曝光的技术和制造都相对来说简单，制造起来相对来说比较容易。
但是外国呢，基本上都把接触时把光给淘汰了。
至于投影式曝光，一般都是更高级的EUV光刻机上才能使用的。
对于的dUV光刻机，没有必要使用投影式曝光，我们现在使用的仅仅是接近式曝光，硅晶圆片和掩模版彼此之间的距离非常小，这一段距离大约保持的260um之下，以我们的肉眼是看不见的，必须用高倍的放大镜才可以看见。
投影式曝光非常的复杂，只不过基本上分为三种：扫描步进投影曝光。不仅重复投影曝光。扫描投影曝光。
毫无疑问，这三种方法，对于技术和制造能力来说，都要求非常非常高，几乎到了变态的程度。
“就算是我想要制造出来EUV光刻机，那也需要花费很长的时间，更别说别人了。”
ASmL生产出来的高级光刻机就是用的投影式曝光，它们的产量也不高，一年也就能生产出来30部EUV光刻机。
可以说制造出来光刻机是一件非常不容易的事情，我们甚至可以说光刻机是这个世界上最精密的设备，最起码在现在这个阶段，光刻机是最精密的仪器。
制造光刻机的在很大程度上都能反映出一个国家的工业水平到底处于什么阶段。
一个光刻机他上边的零部件超过10万个，线路有3000条，螺栓4万个，软管长度超过两公里，此外，还有190多个传感器，包含16个分系统。
那么多零补角组合在一起，形成了一个光刻机。设备上的所有零部件之间相互配合，不能出现一个问题。
如果一个小零件出现问题，就能导致整个机器不能正常运转，就连一个小螺栓都不能出现问题。
可以毫不夸张的说，牵一发而动全身。
千万不要小看一个螺栓，它可能就能影响整个机器的运行，可以说只要安装在光刻机上边的零部件那就是重要零部件。
“对了，ASmL公司1年能生产接近生产30台，要是我们马力开，全开一年能生产出来多少台光刻机？”张星辰问道。
对于这个问题张星辰还是很好奇的。
岛国的面积只不过三十七点八平方公里。
相当于岛国这么大，我们的国家呢，大约是九百六十万平方公里，相当于我们国土面积的3％了。
这个面积不可谓不大，但是这么大的面积仅仅误差一米，这是多么令人恐怖的一件事情啊。
这还仅仅是dUV光刻机，就有这样的精密度，要是换作更高级的EUV光刻机呢。
那精密度更高！
还是拿着三十万平方公里计算，那么误差不会超过十厘米。
“十厘米……”张星辰眼睛放着奇异的光芒，小白也不知道张星辰在想什么。
目前为止，在我们星球上只有德意志战车的斯克尔公司可以做到这一步。
就算是风车国的ASmL公司也是采购的这一家公司打磨的镜片。
“我们这一次制造出来的光刻机，一共有着三个平台，这三个平台分别用来盛放掩膜，硅晶圆片还有成品。”
放置成品的目的其实就是为了对芯片进行测试，检验一下芯片是否符合要求。
和最后一个平台相比，前两个平台无疑要重要许多。
这两种平台的运动方式有着两种方式，第一种就是相对静止的。
相对静止模式的光刻机这样可以使得光线可以一下子就镌刻好芯片的线路图，速度相对来说是快一些，，但是这样的话相当于直接拓印了。
这就导致了光线容易飞散，很大程度上影响了成品率。
第二种模式就是光线跟着放置眼膜的平台一起运动，这样的话光线集中，镌刻出来的线路图清晰，误差小，自然的成品率就会提高。
“不过对于机械的精密度要求非常高，我们制造出来的dUV光刻机已经可以把误差控制在十纳米之内了，对于制造45纳米的芯片而已来说已经可以了，已经可以满足要求，没有必要使用第二种模式。”
“如果使用EUV光刻机，那么对于误差的要求会更加严格，必须要保证在两纳米之内。”
除此之外，这里有一点需要说明，两个工作台在运动时候初速度的加速度非常快，甚至可以和发射炮弹出去时候的加速度相媲美。
而且制造芯片的时候，光刻机必须处于恒温状态，对于温度要求非常严格，在工作状态的时候，温度的误差不能超过千分之一。
“我们制造了这一款dUV光刻机，这两个平面是静止的这样制造起来更容易，也同样也是可以满足要求。”
掩模和硅晶圆片的相对位置这里也有三种，第一种是相互接触；第二种是他们两个的位置非常接近，但是并不接触；第三种就是距离相对较远，相当于投影。
也就是接触式曝光。接近式曝光、投影式曝光这三种。
其中效果最好的是投影式曝光，最差的就是接触式曝光。
“我们选择中间的接近式曝光，因为dUV光刻机没有必要用最好的，这样大大提高了难度和成本，以及功能富足。”
关于接触式的曝光其实非常复杂的，不过总体上可以分为三种，一种是真空接触，一种是硬接触，一种是软接触。
虽然名字不一样，但是后面两个字是不会错的，那都是接触。
因为掩模和硅晶圆片相互接触了，那么他们之间肯定会相互摩擦，这样不仅对硅晶圆片上面的光刻胶产生影响，而且还会影响掩模的精密度，影响掩模上面的线路图。
因为掩膜版，它是需要重复使用的，但这样每一次使用都和硅晶圆片相互接触，那么久而久之模版就会伤害上面的线路。线路图就会越来越模糊，甚至出现缺陷，也就使的掩模的破损率大大增加。
在使用一段时间之后，掩膜版就不能使用了。
这样接触式曝光就有一个严重的缺点，这样的缺点导致接触式曝光渐渐被淘汰了。
说出来很可惜，我们国家现在生产出来的光刻机，基本上都是接触式曝光，因为接触式曝光的技术和制造都相对来说简单，制造起来相对来说比较容易。
但是外国呢，基本上都把接触时把光给淘汰了。
至于投影式曝光，一般都是更高级的EUV光刻机上才能使用的。
对于的dUV光刻机，没有必要使用投影式曝光，我们现在使用的仅仅是接近式曝光，硅晶圆片和掩模版彼此之间的距离非常小，这一段距离大约保持的260um之下，以我们的肉眼是看不见的，必须用高倍的放大镜才可以看见。
投影式曝光非常的复杂，只不过基本上分为三种：扫描步进投影曝光。不仅重复投影曝光。扫描投影曝光。
毫无疑问，这三种方法，对于技术和制造能力来说，都要求非常非常高，几乎到了变态的程度。
“就算是我想要制造出来EUV光刻机，那也需要花费很长的时间，更别说别人了。”
ASmL生产出来的高级光刻机就是用的投影式曝光，它们的产量也不高，一年也就能生产出来30部EUV光刻机。
可以说制造出来光刻机是一件非常不容易的事情，我们甚至可以说光刻机是这个世界上最精密的设备，最起码在现在这个阶段，光刻机是最精密的仪器。
制造光刻机的在很大程度上都能反映出一个国家的工业水平到底处于什么阶段。
一个光刻机他上边的零部件超过10万个，线路有3000条，螺栓4万个，软管长度超过两公里，此外，还有190多个传感器，包含16个分系统。
那么多零补角组合在一起，形成了一个光刻机。设备上的所有零部件之间相互配合，不能出现一个问题。
如果一个小零件出现问题，就能导致整个机器不能正常运转，就连一个小螺栓都不能出现问题。
可以毫不夸张的说，牵一发而动全身。
千万不要小看一个螺栓，它可能就能影响整个机器的运行，可以说只要安装在光刻机上边的零部件那就是重要零部件。
“对了，ASmL公司1年能生产接近生产30台，要是我们马力开，全开一年能生产出来多少台光刻机？”张星辰问道。
对于这个问题张星辰还是很好奇的。
为更好的阅读体验，本站章节内容基于百度转码进行转码展示，如有问题请您到源站阅读, 转码声明。
无限小说网邀请您进入最专业的小说搜索网站阅读开局获得黑科技系统,开局获得黑科技系统最新章节,开局获得黑科技系统 无限小说网！
无限小说网邀请您进入最专业的小说搜索网站阅读开局获得黑科技系统,开局获得黑科技系统最新章节,开局获得黑科技系统 无限小说网！